太赫茲技術(shù)可用于醫(yī)學(xué)診斷與成像、反恐安全檢查、通信雷達(dá)、射電天文等領(lǐng)域,將對(duì)技術(shù)創(chuàng)新、國(guó)民經(jīng)濟(jì)發(fā)展以及**等領(lǐng)域產(chǎn)生深遠(yuǎn)的影響。作為極具發(fā)展?jié)摿Φ男录夹g(shù),2004年,美國(guó)**將THz科技評(píng)為“改變未來(lái)世界的**技術(shù)”之一,而日本于2005年1月8日更是將THz技術(shù)列為“國(guó)家支柱**重點(diǎn)戰(zhàn)略目標(biāo)”**,舉全國(guó)之力進(jìn)行研發(fā)。傳統(tǒng)的寬帶THz波可以通過(guò)光整流、光電導(dǎo)天線、激光氣體等離子體等方法產(chǎn)生,窄帶THz波可以通過(guò)太赫茲激光器、光學(xué)混頻、加速電子、光參量轉(zhuǎn)換等方法產(chǎn)生。雖然GO具有諸多特性,但是由于范德華作用力,使GO之間很容易在不同體系中發(fā)生團(tuán)聚。多層氧化石墨生產(chǎn)
氧化應(yīng)激是指體內(nèi)氧化與抗氧化作用失衡,傾向于氧化,導(dǎo)致中性粒細(xì)胞炎性浸潤(rùn),蛋白酶分泌增加,產(chǎn)生大量氧化中間產(chǎn)物,即活性氧。大量的實(shí)驗(yàn)研究已經(jīng)確認(rèn)細(xì)胞經(jīng)不同濃度的GO處理后,都會(huì)增加細(xì)胞中活性氧的量。而活性氧的量可以通過(guò)商業(yè)化的無(wú)色染料染色后利用流式細(xì)胞儀或熒光顯微鏡檢測(cè)到。氧化應(yīng)激是由自由基在體內(nèi)產(chǎn)生的一種負(fù)面作用,并被認(rèn)為是導(dǎo)致衰老和疾病的一個(gè)重要因素。氧化應(yīng)激反應(yīng)不僅與GO的濃度[17,18]有關(guān),還與GO的氧化程度[19]有關(guān)。如將蠕蟲(chóng)分別置于10μg/ml和20μg/ml的PLL-PEG修飾的GO溶液中,GO會(huì)引起蠕蟲(chóng)細(xì)胞內(nèi)活性氧的積累,其活性氧分別增加59.2%和75.3%。杭州生產(chǎn)氧化石墨氧化石墨片層的邊緣包括羰基或羧基。
RGO制備簡(jiǎn)單、自身具有受還原程度調(diào)控的帶隙,可以實(shí)現(xiàn)超寬譜(從可見(jiàn)至太赫茲波段)探測(cè)。氧化石墨烯的還原程度對(duì)探測(cè)性能有***影響,隨著氧化石墨烯還原程度的提高,探測(cè)器的響應(yīng)率可以提高若干倍以上。因此,在CVD石墨烯方案的基礎(chǔ)上,研究者開(kāi)始嘗試使用還原氧化石墨烯制備類(lèi)似結(jié)構(gòu)的光電探測(cè)器。對(duì)于RGO-Si器件,帶間光子躍遷以及界面處的表面電荷積累,是影響光響應(yīng)的重要因素[72]。2014年,Cao等[73]將氧化石墨烯分散液滴涂在硅線陣列上,而后通過(guò)熱處理對(duì)氧化石墨烯進(jìn)行熱還原,制得了硅納米線陣列(SiNW)-RGO異質(zhì)結(jié)的室溫超寬譜光探測(cè)器。該探測(cè)器在室溫下,***實(shí)現(xiàn)了從可見(jiàn)光(532nm)到太赫茲波(2.52THz,118.8mm)的超寬譜光探測(cè)。在所有波段中,探測(cè)器對(duì)10.6mm的長(zhǎng)波紅外具有比較高的光響應(yīng)率可達(dá)9mA/W。
氧化石墨烯(GO)表面有羥基、羧基、環(huán)氧基、羰基等親水性的活性基團(tuán),且片層間距較大,使得氧化石墨烯具有超大比表面積和***的離子交換能力。GO的結(jié)構(gòu)與水通蛋白相類(lèi)似,而蛋白質(zhì)本身具有優(yōu)異的離子識(shí)別功能,由此可推斷氧化石墨烯在分離、過(guò)濾及仿生離子傳輸?shù)阮I(lǐng)域可能具有潛在的應(yīng)用價(jià)值1-3。GO經(jīng)過(guò)超聲可以穩(wěn)定地分散在水中,再通過(guò)傳統(tǒng)成膜方法如旋涂、滴涂和真空抽濾等處理后,GO微片可呈現(xiàn)肉眼可見(jiàn)的層狀薄膜堆疊,在薄膜的層與層之間形成具有選擇性的二維納米通道。 除此之外,GO由于片層間存在較強(qiáng)的氫鍵,力學(xué)性能優(yōu)異,易脫離基底而**存在。基于GO薄膜制備方法簡(jiǎn)單、成本低、高通透性和高選擇性等優(yōu)點(diǎn),其在水凈化領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用空間。氧化石墨烯(GO)的比表面積很大,厚度小。
TO具有光致親水特性,可保證高的水流速率,在沒(méi)有外部流體靜壓的情況下,與GO/TO情況相比,通過(guò)RGO/TO雜化膜的離子滲透率可降低至0.5%,而使用同位素標(biāo)記技術(shù)測(cè)量的水滲透率可保持在原來(lái)的60%,如圖8.5(d-g)所示。RGO/TO雜化膜優(yōu)異的脫鹽性能,表明TO對(duì)GO的光致還原作用有助于離子的有效排斥,而在紫外光照射下光誘導(dǎo)TO的親水轉(zhuǎn)化是保留優(yōu)異的水滲透性的主要原因。這種復(fù)合薄膜制備方法簡(jiǎn)單,在水凈化領(lǐng)域具有很好的潛在應(yīng)用。。氧化石墨可以通過(guò)用強(qiáng)氧化劑來(lái)處理石墨來(lái)制備。多層氧化石墨生產(chǎn)
氧化石墨中存在大量親水基團(tuán)(如羧基與羥基),在水溶液中容易分散。多層氧化石墨生產(chǎn)
當(dāng)前社會(huì)的快速發(fā)展造成了嚴(yán)重的重金屬離子污染,重金屬離子毒性大、分布廣、難降解,一旦進(jìn)入生態(tài)環(huán)境,嚴(yán)重威脅人類(lèi)的生命健康。目前,含重金屬離子廢水的處理方法主要有化學(xué)沉淀法、膜分離法、離子交換法、吸附法等等。而使用納米材料吸附重金屬離子成為當(dāng)前科研人員的研究熱點(diǎn)。相對(duì)活性炭、碳納米管等碳基吸附材料,氧化石墨烯的比表面積更大,表面官能團(tuán)(如羧基、環(huán)氧基、羥基等)更為豐富,具有很好的親水性,可以與金屬離子作用富集分離水相中的金屬離子;同時(shí),氧化石墨烯片層可交聯(lián)極性小分子或聚合物制備出氧化石墨烯納米復(fù)合材料,吸附特性更加優(yōu)異。多層氧化石墨生產(chǎn)