微泰半導體閘閥具有獨特的特點：其插板閥主滑閥采用球機構方式，并且在量產工藝設備上經過了性能驗證。該閘閥由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成，陶瓷與金屬接觸驅動時不會產生顆粒。目前已向中國臺灣的 Micron、UMC、AKT，新加坡的 Micron、Global Foundries，馬來西亞的英菲尼亞半導體，日本的 Micron、三星半導體等眾多設備廠批量供貨，且品質得到認可，同時也完成了對半導體 Utility 設備和批量生產設備的驗證。與其他廠家閘閥的金屬與金屬接觸驅動會產生大量顆粒不同，微泰半導體閘閥采用鋼陶瓷球，在與金屬摩擦時不會損壞，且金屬與陶瓷球之間不會產生 Particle。半永久板簧（SUS 鋼板）的應用確保了閥門驅動的同步性，同時還采用了固定球導向器和鋼陶瓷。微泰半導體閘閥廣泛應用于 Evaporation（蒸發）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）、CVD（化學氣相沉積）等設備上，可替代 HVIA閘閥、VAT 閘閥。此外，該閘閥由上海安宇泰環?？萍加邢薰咎峁?。這些真空閥可以手動、氣動或電子方式驅動，從而可以根據具體應用進行多功能控制。電動閘閥角控制閥

微泰半導體閘閥的特點：已向中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備，設備廠批量供貨，已得到品質認可，已完成對半導體Utility設備和批量生產設備的驗證。1，采用陶瓷球機構，抗沖擊和震動，保證使用25萬次，檢修方便，較低維護成本。2，無Particle（顆粒）產生，采用陶瓷球無腐蝕和顆粒產。3，屏蔽保護：屏蔽式保護功能，閘閥閥體與擋板之間的距離小于1mm，可防止粉末侵入閥內，壽命為半永久性。4，保護環：Protecrion Ring通過流速上升設計防止粉末凝固，并通過打磨（研磨）工藝防止粉末堆積。微泰半導體閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上?？商娲鶫VA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環保科技有限公司。蝕刻閘閥閘板閥真空閘閥由一個滑動門或板組成，可以移動以阻止或允許通過真空閥體，從而有效地將腔室與外部環境隔離。

微泰半導體閘閥的特點：插板閥主滑閥的球機構方式-在量產工藝設備上的性能驗證-由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成，陶瓷和金屬觸摸驅動無顆粒-已向中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備，設備廠批量供貨，已得到品質認可，已完成對半導體Utility設備和批量生產設備的驗證，而其他廠家閘閥金屬和金屬觸摸驅動產生大量顆粒。使用鋼陶瓷球，與金屬摩擦時不會損壞，金屬與陶瓷球之間不會產生Particle，半永久板簧（SUS鋼板）的應用確保閥門驅動同步性，采用了固定球導向器和鋼陶瓷。微泰半導體閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上?？商娲鶫VA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環?？萍加邢薰?。

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。這節介紹加熱閘閥、加熱式閘閥護套、加熱器插入式閥門。帶加熱器閘閥，加熱器插入閘閥：產品范圍：2~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數：20萬次?響應時間：0.2秒~3秒；客戶指定法蘭，加熱溫度：450℃；蝶形閥；蝶閥：產品范圍：DN40、DN50隔離?泄漏率：1.0E-9mbar·l/秒；有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環?？萍加邢薰鹃l閥啟閉時較省力。是與截止閥相比而言，因為無論是開或閉，閘板運動方向均與介質流動方向相垂直。

微泰，三重防護閘閥、三防閘閥，應用于? Evaporation? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD? 涂層? Etch? Diffusion?CVD（化學氣相沉積）等設備上。可替代VAT閘閥。微泰三重防護閘閥、三防閘閥其特點是? 閥門控制器（1CH ~ 4CH）? 應用：半導體生產線中粉末和氣體等副產品的處理，防止回流。三重防護閘閥、三防閘閥規格如下：操作：氣動、法蘭尺寸（內徑） 2.5? ~ 10?、法蘭類型ISO，KF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型環/Kalrez O型環、閥蓋密封：Viton O型圈、響應時間：≤ 0.3 sec ~ 0.6 sec、操作壓力范圍： 1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 8? ~ 10? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar、閘門上的壓差； 1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 10? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10-10 mbar ?/sec、維護前可用次數：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績，上海安宇泰環?？萍加邢薰?。閘閥的結構長度(系殼體兩連接端面之間的距離)較小。濺射閘閥角控制閥

閘閥的結構比較簡單，一般由閥體、閥座、閥桿、閘板、閥蓋、密封圈幾部分組成。電動閘閥角控制閥

微泰，蝶閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。可替代VAT閘閥。微泰蝶閥其特點是? 主體材料：鋁或不銹鋼? 緊湊型設計? 高性能集成控制器? 使用維修零件套件輕松維護? 應用：半導體和工業過程的壓力控制。蝶閥規格如下：法蘭尺寸(內徑)：DN40、DN50、饋通：旋轉饋通、閥門密封：FKM（VITON）、執行器：步進電機、壓力范圍：1×10-8 mbar to 1200 mbar 、開啟壓差：≤ 30 mbar、開啟壓差≤30mbar、氦泄漏率1X10 -9Mbar/秒、維護前可用次數：250,000次、閥體溫度≤ 150 °、控制器≤ 35 °C、材料：閥體STS304/機制STS304、安裝位置：任意、接口：RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績，上海安宇泰環?？萍加邢薰尽ｋ妱娱l閥角控制閥