光刻是半導體制造中非常重要的一個工藝步驟，其作用是在半導體晶片表面上形成微小的圖案和結構，以便在后續的工藝步驟中進行電路的制造和集成。光刻技術是一種利用光學原理和化學反應來制造微電子器件的技術，其主要步驟包括光刻膠涂覆、曝光、顯影和清洗等。在光刻膠涂覆過程中，將光刻膠涂覆在半導體晶片表面上，形成一層均勻的薄膜。在曝光過程中，將光刻膠暴露在紫外線下，通過掩模的光學圖案將光刻膠中的某些區域暴露出來，形成所需的圖案和結構。在顯影過程中，將暴露過的光刻膠進行化學反應，使其在所需的區域上形成微小的凸起或凹陷結構。除此之外，在清洗過程中，將未暴露的光刻膠和化學反應后的殘留物清理掉，形成所需的微電子器件結構。光刻技術在半導體制造中的作用非常重要，它可以制造出非常小的微電子器件結構，從而實現更高的集成度和更高的性能。同時，光刻技術也是半導體制造中成本更高的一個工藝步驟之一，因此需要不斷地進行技術創新和優化，以減少制造成本并提高生產效率。光刻膠是光刻過程中的重要材料，可以保護硅片表面并形成圖形。云南功率器件光刻
邊緣的光刻膠一般涂布不均勻，不能得到很好的圖形，而且容易發生剝離（Peeling）而影響其它部分的圖形。所以需要去除。方法：a、化學的方法（ChemicalEBR）。軟烘后，用PGMEA或EGMEA去邊溶劑，噴出少量在正反面邊緣處，并小心控制不要到達光刻膠有效區域；b、光學方法（OpticalEBR）。即硅片邊緣曝光（WEE，WaferEdgeExposure）。在完成圖形的曝光后，用激光曝光硅片邊緣，然后在顯影或特殊溶劑中溶解；對準方法：a、預對準，通過硅片上的notch或者flat進行激光自動對準；b、通過對準標志（AlignMark），位于切割槽（ScribeLine）上。深圳數字光刻負膠光刻的基本流程：襯底清洗、前烘以及預處理、涂膠、軟烘、曝光、后烘、顯影、圖形檢查。
光刻膠是光刻工藝中較關鍵材料，國產替代需求緊迫。光刻工藝是指在光照作用下，借助光刻膠將掩膜版上的圖形轉移到基片上的技術，在半導體制造領域，隨著集成電路線寬縮小、集成度大為提升，光刻工藝技術難度大幅提升，成為延續摩爾定律的關鍵技術之一。同時，器件和走線的復雜度和密集度大幅度提升，較好制程關鍵層次需要兩次甚至多次曝光來實現。其中，光刻膠的質量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關鍵因素。光刻膠經過幾十年不斷的發展和進步，應用領域不斷擴大，衍生出非常多的種類。不同用途的光刻膠曝光光源、反應機理、制造工藝、成膜特性、加工圖形線路的精度等性能要求不同，導致對于材料的溶解性、耐蝕刻性、感光性能、耐熱性等要求不同。因此每一類光刻膠使用的原料在化學結構、性能上都比較特殊，要求使用不同品質等級的光刻膠**化學品。
不同波長的光刻光源要求截然不同的光刻設備和光刻膠材料。在20世紀80年代，半導體制成的主流工藝尺寸在1.2um(1200nm)至0.8um(800nm)之間。那時候波長436nm的光刻光源被普遍使用。在90年代前半期，隨著半導體制程工藝尺寸朝0.5um（500nm）和0.35um（350nm）演進，光刻開始采用365nm波長光源。436nm和365nm光源分別是高壓汞燈中能量較高，波長較短的兩個譜線。高壓汞燈技術成熟，因此較早被用來當作光刻光源。使用波長短，能量高的光源進行光刻工藝更容易激發光化學反應、提高光刻分別率。光刻技術是一種重要的微電子制造技術，可以制造出高精度的微電子器件。
光聚合型光刻膠采用烯類單體，在光作用下生成自由基，進一步引發單體聚合，較后生成聚合物；光分解型光刻膠，采用含有重氮醌類化合物(DQN)材料作為感光劑，其經光照后,發生光分解反應，可以制成正性光刻膠；光交聯型光刻膠采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料，在光的作用下，形成一種不溶性的網狀結構，而起到抗蝕作用，可以制成負性光刻膠。動態噴灑法：隨著硅片尺寸越來越大，靜態涂膠已經不能滿足較新的硅片加工需求。廣東省科學院半導體研究所。光刻機是實現光刻技術的主要設備，可以實現高精度、高速度的圖案制造。河北光刻實驗室
光刻膠是由光引發劑（包括光增感劑、光致產酸劑）、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑組成。云南功率器件光刻
光刻技術是一種將光線通過掩模進行投影，將圖案轉移到光敏材料上的制造技術。在光學器件制造中，光刻技術被廣泛應用于制造微型結構和納米結構，如光學波導、光柵、微透鏡、微鏡頭等。首先，光刻技術可以制造高精度的微型結構。通過使用高分辨率的掩模和精密的光刻機，可以制造出具有亞微米級別的結構，這些結構可以用于制造高分辨率的光學器件。其次，光刻技術可以制造具有復雜形狀的微型結構。通過使用多層掩模和多次光刻，可以制造出具有復雜形狀的微型結構，這些結構可以用于制造具有特殊功能的光學器件。除此之外，光刻技術可以制造大規模的微型結構。通過使用大面積的掩模和高速的光刻機，可以制造出大規模的微型結構，這些結構可以用于制造高效的光學器件。總之，光刻技術在光學器件制造中具有廣泛的應用，可以制造高精度、復雜形狀和大規模的微型結構，為光學器件的制造提供了重要的技術支持。云南功率器件光刻
