臥式甩干機基于離心力原理工作。當(dāng)裝有晶圓的轉(zhuǎn)鼓開始高速旋轉(zhuǎn)時，晶圓表面殘留的液體（如清洗液、刻蝕液等）在離心力作用下被甩離晶圓表面。離心力的大小由轉(zhuǎn)鼓轉(zhuǎn)速和晶圓到旋轉(zhuǎn)中心的距離決定，根據(jù)公式2（其中是離心力，是液體質(zhì)量，是角速度，是旋轉(zhuǎn)半徑），通過精確控制轉(zhuǎn)鼓轉(zhuǎn)速，可以產(chǎn)生足夠強大的離心力，使液體沿轉(zhuǎn)鼓切線方向甩出。在甩干過程中，除了離心力的直接作用，設(shè)備內(nèi)部的通風(fēng)系統(tǒng)也發(fā)揮關(guān)鍵作用。清潔、干燥的空氣被引入轉(zhuǎn)鼓內(nèi)部，在晶圓表面形成氣流，加速液體的蒸發(fā)。同時，由于不同液體的揮發(fā)性不同，在離心力和氣流的共同作用下，揮發(fā)性較強的成分會更快地?fù)]發(fā)，使晶圓表面達(dá)到高度干燥狀態(tài)。強勁動力系統(tǒng)：搭載大功率電機，轉(zhuǎn)速穩(wěn)定，脫水速率快，含水率可降至行業(yè)低位。陜西離心甩干機生產(chǎn)廠家
在半導(dǎo)體制造流程里，晶圓甩干機至關(guān)重要。它利用離心力原理工作，當(dāng)晶圓置于甩干機旋轉(zhuǎn)平臺，電機帶動平臺高速轉(zhuǎn)動，離心力使晶圓表面液體向邊緣移動并甩出，實現(xiàn)快速干燥。其結(jié)構(gòu)主要有高精度旋轉(zhuǎn)平臺，確保晶圓平穩(wěn)旋轉(zhuǎn)；強勁驅(qū)動電機，提供穩(wěn)定動力并精 zhun 調(diào)速；智能控制系統(tǒng)，便于操作人員設(shè)定甩干時間、轉(zhuǎn)速等參數(shù)。在實際應(yīng)用中，清洗后的晶圓殘留液體若不及時去除，會影響后續(xù)光刻、蝕刻等工藝。晶圓甩干機高效去除液體，保障晶圓表面干燥潔凈，為后續(xù)工藝順利進(jìn)行奠定基礎(chǔ)，提升芯片良品率。上海立式甩干機設(shè)備防纏繞內(nèi)筒紋路：特殊凹凸設(shè)計減少物料纏繞，甩干后物料更松散均勻。
高效穩(wěn)定的晶圓處理利器晶圓甩干機作為半導(dǎo)體行業(yè)中不可或缺的設(shè)備之一，以其高效、穩(wěn)定的特點，成為了晶圓處理中的重要環(huán)節(jié)。作為我公司的重心產(chǎn)品，我們的晶圓甩干機經(jīng)過多年的研發(fā)和優(yōu)化，以滿足客戶在晶圓處理過程中的需求。首先，我們的晶圓甩干機采用了先進(jìn)的技術(shù)，確保了其高效穩(wěn)定的運行。我們引入了較新的離心甩干技術(shù)，通過 gao 速旋轉(zhuǎn)的離心力將水分從晶圓表面甩干，使得晶圓在處理過程中更加干燥。同時，我們的晶圓甩干機還配備了智能控制系統(tǒng)，能夠根據(jù)不同的晶圓尺寸和處理要求進(jìn)行自動調(diào)節(jié)，確保每一次處理的效果穩(wěn)定可靠。其次，我們的晶圓甩干機擁有較大的處理能力和靈活的適配性。
隨著芯片制造工廠對生產(chǎn)效率和質(zhì)量控制的要求越來越高，立式甩干機的自動化程度也備受關(guān)注。它需要具備高度自動化的上料、下料功能，能夠與芯片制造的前后工序設(shè)備實現(xiàn)無縫對接，例如通過機械手臂或自動化傳輸系統(tǒng)實現(xiàn)晶圓的自動進(jìn)出料。在運行過程中，甩干機能夠根據(jù)預(yù)設(shè)的工藝參數(shù)自動啟動、停止、調(diào)整轉(zhuǎn)速、控制氣流和加熱等操作，并且可以自動監(jiān)測設(shè)備的運行狀態(tài)，如溫度、壓力、液位等參數(shù)，一旦出現(xiàn)異常情況能夠及時報警并采取相應(yīng)的保護(hù)措施。此外，自動化控制系統(tǒng)還應(yīng)具備數(shù)據(jù)記錄和分析功能，能夠記錄每一次甩干操作的工藝參數(shù)、設(shè)備運行狀態(tài)和晶圓的質(zhì)量數(shù)據(jù)等信息，便于后續(xù)的生產(chǎn)管理、質(zhì)量追溯和工藝優(yōu)化。雙電機單獨驅(qū)動：兩工位轉(zhuǎn)速可單獨調(diào)節(jié)，滿足差異化處理需求。
光刻是芯片制造中極為關(guān)鍵的環(huán)節(jié)，它決定了芯片的電路圖案精度和密度。在光刻膠涂覆之前，晶圓必須處于干燥潔凈的狀態(tài)，因為任何殘留的液體都會干擾光刻膠的均勻涂布，導(dǎo)致光刻膠厚度不均勻，進(jìn)而影響曝光和顯影效果。例如，在曝光過程中，光刻膠厚度不均會使光線透過光刻膠時產(chǎn)生折射和散射差異，導(dǎo)致曝光劑量不均勻，導(dǎo)致顯影后的圖案出現(xiàn)失真、分辨率降低等問題，嚴(yán)重影響芯片的性能和成品率。而在光刻完成后的顯影過程后，晶圓表面又會殘留顯影液，此時立式甩干機再次發(fā)揮關(guān)鍵作用，將顯影液徹底去除，為后續(xù)的芯片加工步驟（如刻蝕、離子注入等）做好準(zhǔn)備，確保光刻工藝能夠精確地將設(shè)計圖案轉(zhuǎn)移到晶圓上，實現(xiàn)芯片電路的高保真度制造。雙層減震系統(tǒng)的雙腔甩干機有效降低高頻振動，保護(hù)地板。上海甩干機
雙腔甩干機配備智能感應(yīng)系統(tǒng)，自動平衡衣物分布，減少震動噪音。陜西離心甩干機生產(chǎn)廠家
晶圓甩干機，是半導(dǎo)體制造工藝中負(fù)責(zé)晶圓干燥處理的關(guān)鍵設(shè)備，對提升芯片制造質(zhì)量起著舉足輕重的作用。該設(shè)備的工作原理建立在離心力的基礎(chǔ)之上。當(dāng)晶圓被準(zhǔn)確放置在甩干機的旋轉(zhuǎn)托盤上，電機驅(qū)動托盤飛速轉(zhuǎn)動。在高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力影響下，晶圓表面的液體因受力不均，從中心向邊緣快速移動，并被甩出晶圓表面，實現(xiàn)干燥效果。晶圓甩干機的結(jié)構(gòu)設(shè)計充分考慮了半導(dǎo)體制造的高精度需求。旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)采用高精度的軸承和平衡裝置，確保在高速運轉(zhuǎn)時晶圓始終保持平穩(wěn)，防止因振動產(chǎn)生的晶圓損傷。驅(qū)動系統(tǒng)配備高性能電機，能夠精 zhun 控制轉(zhuǎn)速，滿足不同類型晶圓和工藝的干燥要求。此外，還有先進(jìn)的控制系統(tǒng)，操作人員可通過它輕松設(shè)置干燥時間、轉(zhuǎn)速等參數(shù)，實現(xiàn)自動化操作。同時，設(shè)備還具備安全防護(hù)裝置，如緊急制動系統(tǒng)和防護(hù)門聯(lián)鎖裝置，確保操作人員的安全。在半導(dǎo)體制造流程里，晶圓甩干機緊跟清洗工序。清洗后的晶圓若不及時干燥，殘留液體可能引發(fā)腐蝕、污染等問題。晶圓甩干機憑借其高效的干燥能力，迅速去除晶圓表面液體，為后續(xù)的光刻、刻蝕等精密工藝提供干燥、潔凈的晶圓，有效提高了芯片制造的良品率與生產(chǎn)效率。陜西離心甩干機生產(chǎn)廠家
