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SGTMOSFET基本參數
  • 品牌
  • SJ
  • 型號
  • SJZ011N04
  • 類型
  • SGT
  • BV
  • 40
SGTMOSFET企業商機

深溝槽工藝對寄生電容的抑制

SGT MOSFET 的深溝槽結構深度可達 5-10μm(是傳統平面 MOSFET 的 3 倍以上),通過垂直導電通道減少電流路徑的橫向擴展,從而降低寄生電容。具體而言,柵-漏電容(Cgd)和柵-源電容(Cgs)分別減少 40% 和 30%,使得器件的開關損耗(Eoss=0.5×Coss×V2)大幅下降。以 PANJIT 的 100V SGT 產品為例,其 Qgd(米勒電荷)從傳統器件的 15nC 降至 7nC,開關頻率可支持 1MHz 以上的 LLC 諧振拓撲,適用于高頻快充和通信電源場景。 SGT MOSFET 獨特的屏蔽柵溝槽結構,優化了器件內部電場分布,相較于傳統 MOSFET,大幅提升了擊穿電壓能力.廣東80VSGTMOSFET供應

廣東80VSGTMOSFET供應,SGTMOSFET

多溝槽協同設計與元胞優化

為實現更高功率密度,SGTMOSFET采用多溝槽協同設計:1場板溝槽,通過引入與漏極相連的場板,平衡體內電場分布,抑制動態導通電阻(RDS(on))的電流崩塌效應;2源極接觸溝槽,縮短源極金屬與硅片的接觸距離,降低接觸電阻(Rcontact)3柵極分割溝槽,將柵極分割為多個單一單元,減少柵極電阻(Rg)和柵極延遲時間(td)。通過0.13μm超細元胞工藝,元胞密度提升50%,RDS(on)進一步降低至33mΩ·mm2(100V產品)。 廣東SOT-23SGTMOSFET廠家現貨屏蔽柵降米勒電容,SGT MOSFET 減少電壓尖峰,穩定電路運行。

廣東80VSGTMOSFET供應,SGTMOSFET

SGT MOSFET 的結構創新在于引入了屏蔽柵。這一結構位于溝槽內部,多晶硅材質的屏蔽柵極處于主柵極上方。在傳統溝槽 MOSFET 中,電場分布相對單一,而 SGT MOSFET 的屏蔽柵能夠巧妙地調節溝道內電場。當器件工作時,電場不再是簡單的三角形分布,而是在屏蔽柵的作用下,朝著更均勻、更高效的方向轉變。這種電場分布的優化,降低了導通電阻,提升了開關速度。例如,在高頻開關電源應用中,SGT MOSFET 能以更快速度切換導通與截止狀態,減少能量在開關過程中的損耗,提高電源轉換效率,為電子產品的高效運行提供有力支持。

在醫療設備領域,如便攜式超聲診斷儀,對設備的小型化與低功耗有嚴格要求。SGT MOSFET 緊湊的芯片尺寸可使超聲診斷儀在更小的空間內集成更多功能。其低功耗特性可延長設備電池續航時間,方便醫生在不同場景下使用,為醫療診斷提供更便捷、高效的設備支持。在戶外醫療救援或偏遠地區醫療服務中,便攜式超聲診斷儀需長時間依靠電池供電,SGT MOSFET 低功耗優勢可確保設備持續工作,為患者及時診斷病情。其小尺寸特點使設備更輕便,易于攜帶與操作,提升醫療服務可及性,助力醫療行業提升診斷效率與服務質量,改善患者就醫體驗。SGT MOSFET 低功耗特性,延長筆記本續航,適配其緊湊空間,便捷辦公。

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柵極電荷(Qg)與開關性能優化

SGTMOSFET的開關速度直接受柵極電荷(Qg)影響。通過以下技術降低Qg:1薄柵氧化層:將柵氧化層厚度從500?減至200?,柵極電容(Cg)降低60%;2屏蔽柵電荷補償:利用屏蔽電極對柵極的電容耦合效應,抵消部分米勒電荷(Qgd);3低阻柵極材料,采用TiN或WSi2替代多晶硅柵極,柵極電阻(Rg)減少50%。利用這些工藝改進,可以實現低的 QG,從而實現快速的開關速度及開關損耗,進而在各個領域都可得到廣泛應用 服務器電源用 SGT MOSFET,高效轉換,降低發熱,保障數據中心運行。廣東100VSGTMOSFET標準

SGT MOSFET 運用屏蔽柵溝槽技術,革新了內部電場分布,將傳統三角形電場優化為近似梯形電場.廣東80VSGTMOSFET供應

SGT MOSFET 的柵極電荷特性對其性能影響深遠。低柵極電荷(Qg)意味著在開關過程中所需的驅動能量更少。在高頻開關應用中,這一特性可大幅降低驅動電路的功耗,提高系統整體效率。以無線充電設備為例,SGT MOSFET 低 Qg 的特點能使設備在高頻充電過程中保持高效,減少能量損耗,提升充電速度與效率。在實際應用中,低柵極電荷使驅動電路設計更簡單,減少元件數量,降低成本,同時提高設備可靠性。如在智能手表的無線充電模塊中,SGT MOSFET 憑借低 Qg 優勢,可在小尺寸空間內實現高效充電,延長手表電池續航時間,提升用戶體驗,推動無線充電技術在可穿戴設備領域的廣泛應用。廣東80VSGTMOSFET供應

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廣東30VSGTMOSFET銷售公司
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