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美國IONPURE EDI模塊企業商機

 美國西門子(IONPURE)EDI模塊混床在運行過程中,其內部的樹脂分為飽和區,交換區,新生區。飽和區的樹脂已經被離子飽和,不再具有從進水中交換離子的功能;交換區的樹脂處于部分飽和狀態,離子交換主要在交換區完成;新生區的樹脂尚未發生離子交換。隨著混床的運行,飽和區和交換區將逐步向上移動,新生區的空間將減少,直到被穿透。新生區的存在是產水的保證,而新生區被穿透的時候,也就意味著混床產水水質將下降,混床需要用藥品再生。美國IONPURE EDI模塊上海純超環保歡迎咨詢。天津美國IONPURE EDI模塊多少錢

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edi模塊的結構特點:

1、淡水隔板采用衛生級PE材料;

2、膜片采用進口均相膜和國產異相離子交換膜;

3、采用進口edi專用均粒樹脂和國產edi專用均粒樹脂;

4、edi模塊電極板采用鈦鍍釕技術;

5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成;

6、固定螺絲采用國標標準件;

7、出廠最 高試壓7bar不漏水;

8、電阻低、功耗小;

9、edi模塊外觀裝飾板造型美觀結實;

10、最 大膜堆處理水量3T/H,最 小模堆處理水量75L/H;

11、純水、濃水、極水通道設計合理,不易堵塞,水流分布均勻、無死角。 四川原裝美國IONPURE EDI模塊哪家好美國IONPURE EDI模塊上海純超環保歡迎來電。

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如果電壓降低或是進水的總離子水平提高的話,那么系統中的樹脂會更多的和離子發生交換,相應的工作區間就往出水側移動,直至達到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導會發生一定的變化,出水的弱電離子增加是最明顯的表現。如果電壓上升或是進水離子減少,則系統的工作區間會向進水側發生移動,表現為出水水質變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統的平衡狀態可以通過出水水質變化,弱電離子的漏出多少來實現,并可以通過工作區間的移動來解釋。

     濃水流量的變化是另一個調節系統平衡的要素,特別是對于系統中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子Si也有一定關系。由于Si在25℃,pH值是6~8的水體中的溶解度是120mg/L。所以進水的濃縮倍率達到一定程度后,Si在濃水中就會飽和,導致不能進行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。

IONPUREIP-LXM45Z EDI模塊設備的進水指標:

     ◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水;

     ◎TEA(總可交換陰離子,以CaCO3計):<25ppm;

     ◎電導率:<40μS/cm;

     ◎PH:6.0~9.0。當總硬度低于0.1ppm時,EDI最 佳工作的pH范圍為8.0~9.0;      

     ◎溫度: 5~35℃;

      ◎進水壓力:<4bar(60psi);

     ◎硬度:(以CaCO3計):<1.0ppm;

     ◎有機物( TOC):<0.5ppm;

      ◎氧化劑:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm;

      ◎變價金屬:Fe<0.01ppm,Mn<0.02ppm。;

      ◎H2S:<0.01ppm;

     ◎二氧化硅:<0.5ppm;

     ◎色度:<5APHA;

     ◎二氧化碳的總量:<10ppm;

     ◎ SDI 15min:<1.0。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環保貨真價實。

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    根據美國IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊系統的運行狀態,EDI系統的清洗采用酸洗—消毒—堿洗的方法來清洗EDI模塊。

1.

  清洗時,EDI系統的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從“原水進”和”濃水進”清洗口進入EDI,從“產水”、“濃水出”、“極水出”回到清洗水箱。(正洗)

2.

第 一步 酸洗:清洗水箱中配制2.0%鹽酸溶液,循環30分鐘。

      沖洗:清洗水箱中酸洗液放掉后,將水箱中水沖洗至中性,然后將清洗進和回流管清洗到回流水至中性。

第二步 消毒:清洗水箱中配制0.2%的H2O2溶液(約用25% H2O2的濃10kg)循環50分鐘。

      沖洗:清洗水箱中消毒液放掉后,清洗EDI至水箱中回流水至電導率降至100μs/cm以下。

第三步:堿洗:水箱中配制1.2%NaOH+5.0%NaCL 的溶液,循環50分鐘。

      沖洗:清洗水箱中消毒液放掉后,清洗EDI至水箱中回流水至電導率降至100μs/cm以下。


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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式


  ?直通逆流(低及高pH值都可)再循環(氧化劑)


  ?可選清洗模式: 再循環,或直通,順流(低及高 pH值都可)


步驟


  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。


  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)


  ?步驟 2.


  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)



  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)



  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)


  ?按照說明書配制用于商業濃度的RO消毒溶液(閱讀上面所提的清洗化學品規范要求)。總體來說,濃水為已用水按1:100的比例稀釋過。




  ? (僅按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)


  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)




  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產水水質的水引入濃水管線環中直到產水電導率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))


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