美國ionpureEDI模塊的進(jìn)水指標(biāo)：
◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水
◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計）：<25ppm。
◎電導(dǎo)率：<40μS/cm
◎PH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時，EDI最 佳工作的pH范圍為8.0～9.0。
◎溫度：5～35℃。
◎進(jìn)水壓力：<4bar（60psi）。
◎硬度：（以CaCO3計）：<1.0ppm。
◎有機(jī)物（TOC）：<0.5ppm。
◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。
◎變價金屬：Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。
◎H2S：<0.01ppm。
◎二氧化硅：<0.5ppm。
◎色度：<5APHA。
◎二氧化碳的總量：<10ppm。
◎ SDI15min：<1.0。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保優(yōu)質(zhì)服務(wù)。安徽原裝美國IONPURE EDI模塊哪家好
(5) 西門子EDI模塊，TOC(總有機(jī)碳)的影響。
進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過高，會造成樹脂和選擇透過性膜的有機(jī)污染，導(dǎo)致系統(tǒng)運行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時也容易在濃縮水通道形成有機(jī)膠體，堵塞通道。
(6) 西門子EDI模塊，進(jìn)水中CO2的影響。
進(jìn)水中CO2生成的HCO3-是弱電解質(zhì)，容易穿透離子交換樹脂層而造成產(chǎn)水水質(zhì)下降。
(7) 西門子EDI模塊，總陰離子含量(TEA)的影響。
高的TEA將會降西門子EDI模塊產(chǎn)水電阻率，或需要提高西門子EDI模塊運行電流，而過高的運行電流會導(dǎo)致系統(tǒng)電流增大，極水余氯濃度增大，對極膜壽命不利。
另外，進(jìn)水溫度、pH值、SiO2以及氧化物亦對西門子EDI模塊系統(tǒng)運行有影響。 安徽美國IONPURE EDI模塊廠家直供上海純超環(huán)保出售原裝進(jìn)口美國IONPURE EDI模塊。
化學(xué)物質(zhì)使用 ● 系統(tǒng)不需注入 水循環(huán), 完全毋需使用化學(xué)物質(zhì) ● 在濃縮水層運用專利分層式樹脂排列技術(shù)來降低膜組電阻值 ● 濃縮水之電導(dǎo)度通常會介于20-100μS/cm 控制難易度 ● 原水流入濃縮水層后直接回收, 毋需使用循環(huán)泵浦 ● 配管極為簡易, 僅有3支配管(進(jìn)水管, 產(chǎn)品水出水管及濃縮水出水管) ● 無循環(huán)泵浦控制電盤 ● 只需利用電源開關(guān)ON/OFF控制即可, 毋需使用PLC程控 ● 配管及控制簡易, 大幅下降整體設(shè)置及維護(hù)成本 回收率 ● 濃縮水之水質(zhì)優(yōu)于原水許多(電導(dǎo)度通常介于20-100μS/cm) ● 可回收至RO前繼續(xù)使用 其它優(yōu)勢 ● 不需注入鹽水循環(huán), 因此不會在陽極產(chǎn)生任何氯氣(Chlorine)破壞膜塊內(nèi)膜片 ● 獨立膜塊電源控制, 單一膜塊需維護(hù)或故障時不影響其它膜塊組運轉(zhuǎn) ● 另有高溫專用膜塊可供選用
啟動清洗泵運行50分鐘，運行流量和壓力為正常運行狀態(tài)，最小流量可以為EDI正常運行時流量的一半。檢查清洗過程管道無泄漏。
排掉清洗水箱內(nèi)消毒液，并用RO水沖洗EDI出水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。
4．堿洗
1）配制5%NaCL+1.2%NaOH溶液：將1200LRO水沖入清洗水箱中，加入60KgNaCL和14.4KgNaOH，并攪拌均勻使其完全溶解（可啟動清洗泵循環(huán)攪拌）。
2）啟動清洗泵，流量大約45T/h,壓力大約為0.2MPa,循環(huán)50分鐘，停止清洗泵。
3）沖洗排掉清洗水箱內(nèi)清洗液，用RO水沖洗EDI，如清洗后封存，不要沖太徹底。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保貨真價實。
西門子EDI模塊作為超純水設(shè)備的主要部件，一旦損壞將直接造成拋光混床樹脂的壽命縮短，增加運行成本，嚴(yán)重影響生產(chǎn)。
導(dǎo)致西門子EDI模塊故障的主要原因：
1、西門子EDI模塊長期在大電流，低于額定流量情況下運行，極板側(cè)積聚的熱量得不到有效散發(fā)，造成EDI接近兩極的膜片和隔網(wǎng)最 先發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大，水質(zhì)和水量下降，嚴(yán)重會碳化漏水。
2、西門子EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)，EDI的膜片和通道結(jié)垢，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)下降，電流無法調(diào)節(jié)，電壓上升。
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離子進(jìn)入濃水室后，由于陽離子無法穿過陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無法穿過陽離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進(jìn)水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來的時候，其純度可以達(dá)到接近理論純水的水平。
c. 水分子在電的作用下被不斷地離解為H+和OH-和OH- 將分別使得被消耗的陽/陰樹脂連續(xù)再生。
過程a和過程c是樹脂的消耗和再生的兩個相反過程，這兩者會在模塊內(nèi)部形成一個動態(tài)平衡。
淡水可從模塊底部進(jìn)入淡水室，從頂部出來；淡水也可從模塊頂部進(jìn)入模塊，則從模塊底部出來；極水的進(jìn)水與淡水進(jìn)水同為一水流，只是分別進(jìn)入不同的室（極水室和濃水室），并從模塊頂部排出。
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