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美國IONPURE EDI模塊企業商機

2.酸洗

   1)配制2.0%鹽酸溶液:將1200LRO水沖入清洗水箱中,緩慢地加入70Kg37%濃鹽酸,邊加邊攪拌均勻(可啟動清洗泵循環攪拌)。

   2)檢查各閥門切換正常并無酸洗液泄漏后,啟動清洗泵運行30分鐘,運行流量和壓力為正常運行狀態,最小流量可以為EDI正常運行時流量的一半。

   3)沖洗排掉清洗水箱內清洗液,并用RO水沖洗EDI系統出水至中性。

3.消毒

   清洗水箱中加入1200LRO產水,緩緩加入約10kg25%的H2O2溶液,配制0.2%的H2O2溶液,用清洗泵自循環10分鐘,使溶液混合均勻。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環保售后服務有保證。四川供應美國IONPURE EDI模塊多少錢

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IONPUREL-XM系列工業型膜堆是專門為工作應用而設計的。美國IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊具有極其可靠地生產出質量穩定的高純水,而不會由于再生而中斷運行。美國IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊可以應用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業以及實驗室中。


美國IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊產品特色:

采用雙O-型密封圈進行密封,確保膜堆在運行中不發生泄漏;

產水水質等同甚至優于混床出水,無需使用化學藥劑;

連續產水且水質穩定無波動,不似批處理設備呈周期變化;

不需要使用酸、堿中和系統及樹脂罐;

具有優良的電絕緣性能;

在7bar(100psi)、45℃(113oF)條件下,可以連續運行;

采用專利注冊的“全填充”技術,不必使用濃水循環泵和加鹽系統。 四川供應美國IONPURE EDI模塊多少錢上海純超環保出售原裝進口美國IONPURE EDI模塊。

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清洗 隨著工作時間的累積,需要對美國Ionpure EDI模塊進行清洗及消毒,這是因為: - 硬度或金屬結垢,主要產生在濃水室內; - 在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢(例如,硅); - 在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢; - EDI模塊和系統管道及其它部件的生物污垢; - 以上所有情況一起出現在某些情況下,需要使用一種以上的清洗方法。 高溫消毒 美國Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進行消毒,消毒說明將同時提供給用戶。 例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒,只適用于嚴重的生物污堵的消毒, 消毒時先進行低濃度氧化劑消毒,再用高PH清洗。

  美國ionpure IP-LXM30Zedi模塊可以極其可靠地生產出質量穩定的高純水,而不會由于再生而中斷運行。美國ionpure IP-LXM30Z edi模塊可以應用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業以及實驗室中。


美國ionpure IP-LXM30Zedi模塊產品的特色:

· 采用雙O-型密封圈進行密封,確保膜堆在運行中不發生泄漏;

· 產水水質等同甚至優于混床出水,無需使用化學藥劑;

· 連續產水且水質穩定無波動,不似批處理設備呈周期變化;

· 不需要使用酸、堿中和系統及樹脂罐;

· 具有優良的電絕緣性能;

· 在7bar(100psi)、45℃(113oF)條件下,可以連續運行;

· 采用專利注冊的“全填充”技術,不必使用濃水循環泵和加鹽系統;

· 運行成本顯 著降低。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環保電話咨詢。

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西門子LX-Z系列EDI模塊是專門為工作應用而設計的。西門子LX-Z系列EDI模塊可以極其可靠地生產出質量穩定的高純水,而不會由于再生而中斷運行。膜堆可以應用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業以及實驗室中。

   西門子LX-Z系列EDI模塊運行環境:應安裝在室內,避免陽光直射,室內最 高環境溫度是45℃(95oF)。






                             典型膜堆性能

                              操作參數

回收率

90-95%

最 大允許進水壓力

7bar(100psi)

最 高允許進水溫度

45℃(113?F)

名義流量時的壓降范圍

1.4-2.1bar(20-30psi)

                               產水水質

產水電阻率

>16M?.cm (見下面說明)

說明:實際性能可以用Ionpure的IP-Pro設計軟件確定

硅(SiO2)去除率

90-99%,取決于進水條件 美國IONPURE EDI模塊上海純超環保詢問報價。四川供應美國IONPURE EDI模塊多少錢

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式


  ?直通逆流(低及高pH值都可)再循環(氧化劑)


  ?可選清洗模式: 再循環,或直通,順流(低及高 pH值都可)


步驟


  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。


  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)


  ?步驟 2.


  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)



  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)



  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)


  ?按照說明書配制用于商業濃度的RO消毒溶液(閱讀上面所提的清洗化學品規范要求)。總體來說,濃水為已用水按1:100的比例稀釋過。




  ? (僅按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)


  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)




  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產水水質的水引入濃水管線環中直到產水電導率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))


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