岱美儀器技術服務2023-11-13

光刻機是一種用于制造集成電路和其他微納米器件的關鍵設備。其工作原理主要包括以下幾個步驟： 1. 掩膜制備：首先，根據設計要求，制作出一個光刻掩膜。掩膜是一個透明的玻璃或石英板，上面覆蓋有光刻膠。掩膜上的圖案決定了器件的形狀和結構。 2. 對準和曝光：將掩膜放置在光刻機的掩膜臺上，并將待加工的硅片放置在顯影機的臺面上。然后，通過對準系統將掩膜和硅片對準。一旦對準完成，光刻機會使用紫外光源照射掩膜，通過光學透鏡將掩膜上的圖案投射到硅片上。 3. 顯影：在曝光后，硅片上的光刻膠會發生化學反應，使得膠層在曝光區域變得溶解性，形成圖案。然后，將硅片放入顯影機中，使用顯影液將未曝光區域的膠層溶解掉，留下所需的圖案。 4. 清洗和檢查：經過顯影后，硅片上的圖案已經形成。然后，將硅片進行清洗，去除殘留的光刻膠和顯影液。隨后，對硅片進行檢查，確保圖案的質量和準確性。 我們岱美擁有訓練有素的工程師，能夠為各地區用戶提供快捷、可靠的技術支持和維修服務，在此歡迎廣大客戶前來咨詢選購！

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