唯恒塬環保科技（蘇州）有限公司2025-05-26

半導體晶圓對清潔度要求極高，使用改性醇真空清洗機清洗時，將晶圓放置在特制的防靜電、防刮傷的晶圓承載器中。在真空環境下，高純度改性醇蒸汽迅速包裹晶圓，溶解表面的光刻膠殘留、金屬雜質及有機物。設備以低頻率 28kHz、低功率 180W 運行超聲波，產生極其微小的空化氣泡，溫和地去除雜質，避免損傷晶圓表面的納米級結構。清洗溫度嚴格控制在 42℃，清洗時間 8 - 10 分鐘，防止晶圓因長時間接觸溶劑或溫度變化影響性能。清洗結束后，通過真空干燥功能快速、徹底地去除殘留溶劑，使晶圓達到半導體制造所需的超高潔凈標準 。

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