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不傷銅的ITO蝕刻液原理是什么?

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蘇州圣天邁電子科技有限公司2023-10-05

不傷銅的ITO蝕刻液的原理主要是通過蝕刻劑和添加劑的特殊組合,實現在蝕刻ITO的同時,保護銅層不受損害。 蝕刻劑的主要作用是溶解ITO層,常見的蝕刻劑包括酸性蝕刻劑和氧化劑。酸性蝕刻劑如氟化氫銨(NH4HF2)或氟化氫(HF)可以快速蝕刻ITO層,而氧化劑如過氧化氫(H2O2)或高錳酸鉀(KMnO4)可以將ITO氧化成可溶性物質,促進ITO的蝕刻。 添加劑的主要作用是保護銅層,同時調節蝕刻液的酸堿平衡和粘度等性質。常見的添加劑包括弱酸性物質如甘氨酸、丙氨酸等,這些物質可以減緩ITO的蝕刻速率,避免銅層受到過大的損害。此外,一些有機聚合物如聚乙烯吡咯烷酮(PVP)也被用作添加劑,它們可以提高蝕刻液的蝕刻速率和選擇性。 不傷銅的ITO蝕刻液通過優化蝕刻劑和添加劑的配比,實現保護銅層、提高蝕刻速率和選擇性的目的。需要注意的是,不同的蝕刻液配方和添加劑會影響其性能和蝕刻結果,因此在使用蝕刻液時需要仔細考慮其成分和性質。

蘇州圣天邁電子科技有限公司
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簡介:微電子、光伏、線路板、顯示、光學元件、精密五金、通訊、表面處理等領域化學藥水;廢水濃縮處理設備。
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