無錫珹芯電子科技有限公司2024-07-03
隨著半導體工藝節點的不斷縮小,當前工藝節點發展面臨的主要技術挑戰之一是光刻技術的極限。光刻技術是半導體制造中重要的工藝之一,它決定了芯片上電路圖案的精度。隨著工藝節點進入納米級別,傳統的光刻技術已經無法滿足精度要求,因此需要開發新型的光刻技術,如極紫外光刻技術(EUV)和多光束光刻技術等。這些新型光刻技術面臨著研發難度大、設備成本高、生產效率低等挑戰,需要持續的技術創新和研發投入。
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