"現(xiàn)在，UV的穿透深度足以在硅中產(chǎn)生電荷載流子，從而將量子效率/靈敏波段降低至 193 nm或更低波段，“埃賽力達(dá)科技的高級(jí)成像產(chǎn)品和應(yīng)用科學(xué)家 Gerhard Holst 說，“通過適當(dāng)?shù)耐繉雍筒牧希€可以創(chuàng)建靈敏波段低至 2nm 的圖像傳感器，即EUV和軟 X 射線波段。" 硅原對(duì)UV有吸收的光學(xué)材料。標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)玻璃吸收 290 nm 以下區(qū)域的光。為了避免這個(gè)問題，早期的 UV 相機(jī)移除了阻擋元件。現(xiàn)代相機(jī)則使用熔融石英(Silica、Quartz)和/或氟化鈣制成的光學(xué)元件，允許更多UV光通過。 空氣會(huì)吸收180 至 190 nm 以下的光，也會(huì)成為 UV 成像的一個(gè)問題。這部分紫外線光譜通常稱為真空紫外線(VUV)，需要非常高的真空或氨氣環(huán)境。 廣州市元奧儀器有限公司專注于UV紫外相機(jī)，歡迎隨時(shí)交流！

"我猜可以預(yù)期，半導(dǎo)體行業(yè)將進(jìn)一步提高單位面積晶體管的集成度，因此 目前193 nm的實(shí)際照明波長可能會(huì)變得更低。"Gerhard Holst說，圖像傳感器解決方案將準(zhǔn)備好滿足要求，但對(duì)鏡頭材料的需求會(huì)更大。 廣州市元奧儀器有限公司專注于UV紫外相機(jī)，歡迎隨時(shí)交流！