某分析化學實驗室采用 Polos 光刻機開發了集成電化學傳感器的微流控芯片。其多材料同步曝光技術在 PDMS 通道底部直接制備出 10μm 寬的金電極,傳感器的檢測限達 1nM,較傳統電化學工作站提升 100 倍。通過軟件輸入不同圖案,可在 24 小時內完成從葡萄糖檢測到重金屬離子分析的模塊切換。該芯片被用于即時檢測(POCT)設備,使現場水質監測時間從 2 小時縮短至 10 分鐘,相關設備已通過歐盟 CE 認證。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。微流體領域:支持 1-100μm 微通道定制,助力organ芯片血管網絡precise建模。遼寧德國POLOS桌面無掩模光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模
在organ芯片研究中,模擬人體organ微環境需要微米級精度的三維結構。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術,幫助科研團隊在 PDMS 材料上構建出仿生血管網絡與組織界面。某再生醫學實驗室使用 Polos 光刻機,成功制備出肝芯片微通道,其內皮細胞黏附率較傳統方法提升 40%,且可通過軟件實時調整通道曲率,precise模擬肝臟血流動力學。該技術縮短了organ芯片的研發周期,為藥物肝毒性測試提供了更真實的體外模型,相關成果入選《自然?生物技術》年度創新技術案例。吉林德國POLOS桌面無掩模光刻機環保低能耗設計:固態光源能耗較傳統設備降低30%,符合綠色實驗室標準。
對于納 / 微機械系統的研究與制造,德國 Polos 光刻機系列展現出強大實力。無掩模激光光刻技術賦予它高度的靈活性,科研人員能夠快速將創新設計轉化為實際器件。在制造微型齒輪、納米級懸臂梁等微機械結構時,Polos 光刻機可precise控制激光,確保每個部件的尺寸和形狀都符合設計要求。? 借助該光刻機,科研團隊成功研發出新型微機械傳感器,其靈敏度和響應速度遠超傳統產品。并且,由于系統占用空間小,即使是小型實驗室也能輕松引入。Polos 光刻機以其低成本、高效率的特性,成為納 / 微機械系統領域的制造先鋒,助力科研人員不斷探索微納世界的奧秘。
某智能機器人實驗室采用 Polos 光刻機制造了磁控微納機器人。其激光直寫技術在鎳鈦合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋槳結構,機器人在旋轉磁場下的推進速度達 50μm/s,轉向精度小于 5°。通過自定義三維運動軌跡,該機器人在微流控芯片中成功實現了單個紅細胞的捕獲與轉運,操作成功率從傳統方法的 40% 提升至 85%。其輕量化設計(質量 < 1μg)還支持在活細胞表面進行納米級手術,相關成果入選《Science Robotics》年度創新技術。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。柔性電子:曲面 OLED 驅動電路漏電降 70%,彎曲半徑達 1mm,適配可穿戴設備。
在微流控芯片集成領域,某微機電系統實驗室利用 Polos 光刻機的多材料同步曝光技術,在同一塊 PDMS 芯片上直接制備出金屬電極驅動的氣動泵閥結構。其微泵通道寬度可控制在 20μm,流量調節精度達 ±1%,響應時間小于 50ms。通過軟件輸入不同圖案,可在 10 分鐘內完成從連續流到脈沖流的模式切換。該芯片被用于單細胞代謝分析,實現了單個tumor細胞葡萄糖攝取率的實時監測,檢測靈敏度較傳統方法提升 3 倍,相關設備已進入臨床前驗證階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。材料科學:超疏水表面納米圖案化,接觸角 165°,防腐蝕性能增強 10 倍。吉林德國POLOS桌面無掩模光刻機
科研成果轉化:中科院利用同類技術制備跨尺度微盤陣列,研究細胞浸潤機制。遼寧德國POLOS桌面無掩模光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模
Polos光刻機在微機械加工中表現outstanding。其亞微米分辨率可制造80 μm直徑的開環諧振器和2 μm叉指電極,適用于傳感器與執行器開發。結合雙光子聚合技術(如Nanoscribe系統),用戶還能擴展至3D微納結構打印,為微型機器人及光學元件提供多尺度制造方案。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協的情況下,將該技術帶到了桌面上,進一步提升了其優勢。遼寧德國POLOS桌面無掩模光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模
Polos-BESM支持GDS文件直接導入和多層曝光疊加,簡化射頻器件(如IDC電容器)制造流程。研究團隊利用類似設備成功制備高頻電路元件,驗證了其在5G通信和物聯網硬件中的潛力。其高重復性(0.1 μm)確保科研成果的可轉化性,助力國產芯片產業鏈突破技術封鎖56。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統...