在tumor轉移機制研究中,某tumor研究中心利用 Polos 光刻機構建了仿生tumor微環境芯片。通過無掩模激光光刻技術,在 PDMS 基底上制造出三維tumor血管網絡與間質纖維化結構,其中血管直徑可精確控制在 10-50μm。實驗顯示,該芯片模擬的tumor微環境中,tumor細胞遷移速度較傳統二維培養提升 2.3 倍,且化療藥物滲透效率降低 40%,與臨床數據高度吻合。該團隊通過軟件實時調整通道曲率和細胞外基質密度,成功復現了tumor細胞上皮 - 間質轉化(EMT)過程,相關成果發表于《Cancer Research》,并被用于新型抗轉移藥物的篩選平臺開發。POLOS μ 光刻機:桌面級設計,2-23μm 可調分辨率,兼容 4 英寸晶圓,微機電系統加工誤差 < 5μm。重慶德國POLOS桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化
某分析化學實驗室采用 Polos 光刻機開發了集成電化學傳感器的微流控芯片。其多材料同步曝光技術在 PDMS 通道底部直接制備出 10μm 寬的金電極,傳感器的檢測限達 1nM,較傳統電化學工作站提升 100 倍。通過軟件輸入不同圖案,可在 24 小時內完成從葡萄糖檢測到重金屬離子分析的模塊切換。該芯片被用于即時檢測(POCT)設備,使現場水質監測時間從 2 小時縮短至 10 分鐘,相關設備已通過歐盟 CE 認證。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。重慶德國POLOS桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化未來技術儲備:持續研發光束整形與多材料兼容工藝,lead微納制造前沿。
在構建肝臟芯片的血管化網絡時,某生物工程團隊使用 Polos 光刻機實現了跨尺度結構制備。其無掩模技術在 200μm 的主血管與 5μm 的blood capillary間precise銜接,血管內皮細胞貼壁率達 95%,較傳統光刻提升 30%。通過輸入 CT 掃描的真實肝臟血管數據,芯片成功模擬門靜脈與肝竇的血流梯度,使肝細胞功能維持時間從 7 天延長至 21 天。該技術為藥物肝毒性測試提供了接近體內環境的模型,某制藥公司使用后將候選藥物篩選周期縮短 40%,相關成果登上《Lab on a Chip》封面。
德國Polos-BESM系列光刻機采用無掩模激光直寫技術,突破傳統光刻對物理掩膜的依賴,支持用戶通過軟件直接輸入任意圖案進行快速曝光。其亞微米分辨率(most小線寬0.8 μm)和405 nm紫外光源,可在5英寸晶圓上實現高精度微納結構加工18。系統體積緊湊,only占桌面空間,搭配閉環自動對焦(1秒完成)和半自動多層對準功能,大幅提升實驗室原型開發效率,適用于微流體芯片設計、電子元件制造等領域。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協的情況下,將該技術帶到了桌面上,進一步提升了其優勢。雙光子聚合擴展:結合Nanoscribe技術實現3D微納打印,拓展微型機器人制造。
德國 Polos 光刻機系列是電子學領域不可或缺的精密設備。其無掩模激光光刻技術,讓電路圖案曝光不再受限于掩模,能夠實現超高精度的圖案繪制。在芯片研發過程中,Polos 光刻機可precise刻畫出納米級別的電路結構,為芯片性能提升奠定基礎。? 科研團隊使用 Polos 光刻機,成功開發出更高效的集成電路,降低芯片能耗,提高運算速度。而且,該光刻機可輕松輸入任意圖案,滿足不同電子元件的多樣化設計需求。無論是新型傳感器的電路制作,還是微型處理器的研發,Polos 光刻機都能以高精度、低成本的優勢,為電子學領域的科研成果產出提供有力保障,推動電子技術不斷創新。低成本科研普惠:桌面化設計減少投入,無掩膜工藝降低中小型實驗室門檻。安徽PSP光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模
無掩模激光直寫技術:無需物理掩膜,軟件直接輸入任意圖案,降低成本與時間。重慶德國POLOS桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化
無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。重慶德國POLOS桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化
Polos-BESM支持GDS文件直接導入和多層曝光疊加,簡化射頻器件(如IDC電容器)制造流程。研究團隊利用類似設備成功制備高頻電路元件,驗證了其在5G通信和物聯網硬件中的潛力。其高重復性(0.1 μm)確保科研成果的可轉化性,助力國產芯片產業鏈突破技術封鎖56。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統...