某revolution生物醫學研究機構致力于開發快速、precise的疾病診斷技術。在研發一種用于早期tumor篩查的微流體診斷芯片時,采用了德國 Polos 光刻機。利用其無掩模激光光刻技術,科研團隊成功制造出擁有復雜微通道網絡的芯片。這些微通道能精確控制生物樣本與檢測試劑的混合及反應過程,極大提高了檢測的靈敏度和準確性。以往使用傳統光刻技術制備此類芯片,不only周期長,且精度難以保證。而 Polos 光刻機使制備周期縮短了近三分之一,助力該機構在tumor早期診斷研究上取得重大突破,相關成果已發表在國際authority醫學期刊上。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。POLOS μ 光刻機:微型化機身,納米級曝光精度,微流體芯片制備周期縮短 40%。上海POLOSBEAM-XL光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模
低成本桌面化光刻:SPS POLOS μ的科研普惠!Polos系列在微流體領域實現復雜3D流道結構的快速成型。例如,中科院理化所利用類似技術制備跨尺度微盤陣列,研究細胞浸潤行為,為組織工程提供新策略3。Polos的高精度與靈活性支持仿生結構批量生產,推動醫療診斷芯片研發,如tumor篩查與藥物遞送系統的微型化64。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。吉林BEAM-XL光刻機MAX層厚可達到10微米德國技術基因:融合精密光學與自動化控制,確保設備高穩定性與長壽命。
在微流控芯片集成領域,某微機電系統實驗室利用 Polos 光刻機的多材料同步曝光技術,在同一塊 PDMS 芯片上直接制備出金屬電極驅動的氣動泵閥結構。其微泵通道寬度可控制在 20μm,流量調節精度達 ±1%,響應時間小于 50ms。通過軟件輸入不同圖案,可在 10 分鐘內完成從連續流到脈沖流的模式切換。該芯片被用于單細胞代謝分析,實現了單個tumor細胞葡萄糖攝取率的實時監測,檢測靈敏度較傳統方法提升 3 倍,相關設備已進入臨床前驗證階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。
針對植入式醫療設備的長期安全性問題,某生物電子實驗室利用 Polos 光刻機在聚乳酸()基底上制備可降解電極。其無掩模技術避免了傳統掩模污染,使電極的金屬殘留量低于 0.01μg/mm2,生物相容性測試顯示細胞存活率達 99%。通過自定義螺旋狀天線圖案,開發出的可降解心率監測器,在體內降解周期可控制在 3-12 個月,信號傳輸穩定性較同類產品提升 50%,相關技術已進入臨床前生物相容性評價階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。Polos-BESM XL:大尺寸加工空間,保留緊湊設計,科研級精度實現復雜結構一次性成型。
某基因treatment團隊采用 Polos 光刻機開發了微米級 DNA 遞送載體。通過 STL 模型直接導入,在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窩狀微孔結構,載體的 DNA 負載量達 200μg/mg,較傳統電穿孔法提升 5 倍。動物實驗顯示,該載體在肝臟靶向遞送中,基因轉染效率達 65%,且免疫原性降低 70%。其無掩模特性支持根據不同細胞表面受體定制載體形貌,在 CAR-T 細胞treatment中,CAR 基因導入效率從 30% 提升至 75%,相關技術已申請國際patent。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。柔性電子:曲面 OLED 驅動電路漏電降 70%,彎曲半徑達 1mm,適配可穿戴設備。江蘇德國POLOS桌面無掩模光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模
電子學應用:2μm 線寬光刻能力,第三代半導體器件研發效率提升 3 倍。上海POLOSBEAM-XL光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模
柔性電子是未來可穿戴設備的core方向,其電路圖案需適應曲面基底。Polos 光刻機的無掩模技術在聚酰亞胺柔性基板上實現了 2μm 線寬的precise曝光,解決了傳統掩模對準偏差問題。某柔性電子研究中心利用該設備,開發出可貼合皮膚的健康監測貼片,其傳感器陣列的信號噪聲比提升 60%。相比光刻膠掩模工藝,Polos 光刻機將打樣時間從 72 小時壓縮至 8 小時,加速了柔性電路的迭代優化,推動柔性電子從實驗室走向產業化落地。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。上海POLOSBEAM-XL光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模
Polos-BESM支持GDS文件直接導入和多層曝光疊加,簡化射頻器件(如IDC電容器)制造流程。研究團隊利用類似設備成功制備高頻電路元件,驗證了其在5G通信和物聯網硬件中的潛力。其高重復性(0.1 μm)確保科研成果的可轉化性,助力國產芯片產業鏈突破技術封鎖56。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統...