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企業商機
光刻機基本參數
  • 品牌
  • POLOS
  • 型號
  • BEAM
  • 類型
  • 激光蝕刻機
光刻機企業商機

微納衛星對部件重量與精度要求苛刻,傳統加工難以兼顧。Polos 光刻機在硅基材料上實現了 50nm 深度的微溝槽加工,為某航天團隊制造出輕量化星載慣性導航陀螺結構。通過自定義螺旋型振動梁圖案,陀螺的零偏穩定性提升至 0.01°/h,較商用產品性能翻倍。該技術還被用于微推進器噴嘴陣列加工,使衛星姿態調整精度達到亞毫牛級,助力我國低軌衛星星座建設取得關鍵突破。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。科研成果轉化:中科院利用同類技術制備跨尺度微盤陣列,研究細胞浸潤機制。天津德國桌面無掩模光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

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一家專注于再生醫學的科研公司在組織工程支架的研究上,使用德國 Polos 光刻機取得remarkable成果。組織工程支架需要具備特定的三維結構,以促進細胞的生長和組織的修復。Polos 光刻機能夠根據預先設計的三維模型,在生物可降解材料上精確制造出復雜的孔隙結構和表面圖案。通過該光刻機制造的支架,在動物實驗中表現出優異的細胞黏附和組織生長引導能力。與傳統制造方法相比,使用 Polos 光刻機生產的支架,細胞在其上的增殖速度提高了 50%,為組織工程和再生醫學的臨床應用提供了有力支持。天津德國POLOS桌面無掩模光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸固態電池:鋰金屬界面阻抗降至 50Ω?cm2,電池循環壽命提升 3 倍。

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在tumor轉移機制研究中,某tumor研究中心利用 Polos 光刻機構建了仿生tumor微環境芯片。通過無掩模激光光刻技術,在 PDMS 基底上制造出三維tumor血管網絡與間質纖維化結構,其中血管直徑可精確控制在 10-50μm。實驗顯示,該芯片模擬的tumor微環境中,tumor細胞遷移速度較傳統二維培養提升 2.3 倍,且化療藥物滲透效率降低 40%,與臨床數據高度吻合。該團隊通過軟件實時調整通道曲率和細胞外基質密度,成功復現了tumor細胞上皮 - 間質轉化(EMT)過程,相關成果發表于《Cancer Research》,并被用于新型抗轉移藥物的篩選平臺開發。

在航空航天科研中,某科研團隊致力于研發用于環境監測和偵察的微型飛行器。其中,制造輕量化且高性能的微機械部件是關鍵。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術,助力團隊制造出尺寸precise、質量輕盈的微型齒輪、機翼骨架等微機械結構。例如,利用該光刻機制造的微型齒輪,齒距精度達到納米級別,極大提高了飛行器動力傳輸系統的效率和穩定性。基于此,科研團隊成功試飛了一款新型微型飛行器,其續航時間和飛行靈活性遠超同類產品,為未來微型飛行器在復雜環境下的應用奠定了堅實基礎。空間友好設計:占地面積小于 1.2㎡,小型實驗室也能部署高精度光刻系統。

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某集成電路實驗室利用 Polos 光刻機開發了基于相變材料的存算一體芯片。其激光直寫技術在二氧化硅基底上實現了 100nm 間距的電極陣列,器件的讀寫速度達 10ns,較傳統 SRAM 提升 100 倍。通過在電極間集成 20nm 厚的 Ge2Sb2Te5 相變材料,芯片實現了計算與存儲的原位融合,能效比達 1TOPS/W,較傳統馮?諾依曼架構提升 1000 倍。該技術被用于邊緣計算設備,使圖像識別延遲從 50ms 縮短至 5ms,相關芯片已進入小批量試產階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。德國工藝:精密制造基因,10 年以上使用壽命,維護成本低,設備殘值率達 60%。陜西桌面無掩模光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

光學超材料突破:光子晶體結構precise制造,賦能超透鏡與隱身技術研究。天津德國桌面無掩模光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

某生物力學實驗室通過 Polos 光刻機,在單一芯片上集成了壓阻式和電容式細胞力傳感器。其多材料曝光技術在 20μm 的懸臂梁上同時制備金屬電極與硅基壓阻元件,傳感器的力分辨率達 5pN,位移檢測精度達 1nm。在心肌細胞收縮力檢測中,該集成傳感器實現了力 - 電信號的同步采集,發現收縮力峰值與動作電位時程的相關性達 0.92,為心臟電機械耦合機制研究提供了全新工具,相關論文發表于《Biophysical Journal》。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。天津德國桌面無掩模光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

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