Polos光刻機在微機械加工中表現outstanding。其亞微米分辨率可制造80 μm直徑的開環諧振器和2 μm叉指電極,適用于傳感器與執行器開發。結合雙光子聚合技術(如Nanoscribe系統),用戶還能擴展至3D微納結構打印,為微型機器人及光學元件提供多尺度制造方案。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協的情況下,將該技術帶到了桌面上,進一步提升了其優勢。圖案靈活性:支持 STL 模型直接導入,30 分鐘完成從設計到曝光全流程。上海光刻機
某材料科學研究中心在探索新型納米復合材料的性能時,需要在材料表面構建特殊的納米圖案。德國 Polos 光刻機成為實現這一目標的得力工具。研究人員利用其無掩模激光光刻技術,在不同的納米材料表面制作出各種周期性和非周期性的圖案結構。經過測試發現,帶有特定圖案的納米復合材料,其電學、光學和力學性能發生了remarkable改變。例如,一種原本光學性能普通的納米材料,在經過 Polos 光刻機處理后,對特定波長光的吸收率提高了 30%,為開發新型光電器件和光學傳感器提供了新的材料選擇和設計思路 。河北德國BEAM光刻機材料科學:超疏水表面納米圖案化,接觸角 165°,防腐蝕性能增強 10 倍。
在tumor轉移機制研究中,某tumor研究中心利用 Polos 光刻機構建了仿生tumor微環境芯片。通過無掩模激光光刻技術,在 PDMS 基底上制造出三維tumor血管網絡與間質纖維化結構,其中血管直徑可精確控制在 10-50μm。實驗顯示,該芯片模擬的tumor微環境中,tumor細胞遷移速度較傳統二維培養提升 2.3 倍,且化療藥物滲透效率降低 40%,與臨床數據高度吻合。該團隊通過軟件實時調整通道曲率和細胞外基質密度,成功復現了tumor細胞上皮 - 間質轉化(EMT)過程,相關成果發表于《Cancer Research》,并被用于新型抗轉移藥物的篩選平臺開發。
在制備用于柔性顯示的納米壓印模板時,Polos 光刻機的亞微米級定位精度(±50nm)確保了圖案的均勻復制。某光電實驗室使用該設備,在石英基底上刻制出周期 100nm 的柱透鏡陣列,模板的圖案保真度達 99.8%,邊緣缺陷率低于 0.1%?;诖四0迳a的柔性 OLED 背光模組,亮度均勻性提升至 98%,厚度減至 50μm,成功應用于下一代折疊屏手機,相關技術已授權給三家面板制造商。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。微型傳感器量產:80 μm開環諧振器加工能力,推動工業級MEMS傳感器升級。
某revolution生物醫學研究機構致力于開發快速、precise的疾病診斷技術。在研發一種用于早期tumor篩查的微流體診斷芯片時,采用了德國 Polos 光刻機。利用其無掩模激光光刻技術,科研團隊成功制造出擁有復雜微通道網絡的芯片。這些微通道能精確控制生物樣本與檢測試劑的混合及反應過程,極大提高了檢測的靈敏度和準確性。以往使用傳統光刻技術制備此類芯片,不only周期長,且精度難以保證。而 Polos 光刻機使制備周期縮短了近三分之一,助力該機構在tumor早期診斷研究上取得重大突破,相關成果已發表在國際authority醫學期刊上。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。多材料兼容:金屬 / 聚合物 / 陶瓷同步加工,微流控芯片集成傳感器一步成型。上海光刻機
POLOS μ 光刻機:微型化機身,納米級曝光精度,微流體芯片制備周期縮短 40%。上海光刻機
對于納 / 微機械系統的研究與制造,德國 Polos 光刻機系列展現出強大實力。無掩模激光光刻技術賦予它高度的靈活性,科研人員能夠快速將創新設計轉化為實際器件。在制造微型齒輪、納米級懸臂梁等微機械結構時,Polos 光刻機可precise控制激光,確保每個部件的尺寸和形狀都符合設計要求。? 借助該光刻機,科研團隊成功研發出新型微機械傳感器,其靈敏度和響應速度遠超傳統產品。并且,由于系統占用空間小,即使是小型實驗室也能輕松引入。Polos 光刻機以其低成本、高效率的特性,成為納 / 微機械系統領域的制造先鋒,助力科研人員不斷探索微納世界的奧秘。上海光刻機
SPS POLOS μ以桌面化設計降低設備投入成本,無需掩膜制備費用。其光束引擎通過壓電驅動快速掃描,單次寫入區域達400 μm,支持光刻膠如AZ5214E的高效曝光。研究案例顯示,該設備成功制備了間距3 μm的微圖案陣列和叉指電容器,助力納米材料與柔性電子器件的快速原型驗證。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協的情況下,將該技術帶到了桌面上,進一步提升了其優勢。德國 SPS Polos:深耕微納加工 35 年,專注半導體與生命科學領域,全球布局 6 大技術中心,服務 500...