微泰，屏蔽閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? 濺射? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)? Coating（涂層）? Etch? Diffusion?CVD（化學氣相沉積）等設備上。可替代VAT閘閥。其特點是*閥體和阻斷器之間的間隙小于1mm*防止流入的氣體（粉末）進入閥體內部*使用維修配件工具包易于維護*應用:隔離泵，氣流中的高水平工藝。屏蔽閘閥規格如下：驅動方式：手動或氣動、法蘭尺寸：2.5英寸~ 10英寸、法蘭類型：ISO, JIS, ASA, CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環/EPDM、閥蓋密封：Viton O型圈、響應時間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：2.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 10? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：2.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 10? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 60 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績微泰高壓閘閥的特點是*陶瓷球機構產生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:隔離泵。轉移閘閥I型轉移閥

微泰半導體閘閥的特點：插板閥主滑閥的球機構方式-在量產工藝設備上的性能驗證-由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成，陶瓷和金屬觸摸驅動無顆粒-已向中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備，設備廠批量供貨，已得到品質認可，已完成對半導體Utility設備和批量生產設備的驗證，而其他廠家閘閥金屬和金屬觸摸驅動產生大量顆粒。使用鋼陶瓷球，與金屬摩擦時不會損壞，金屬與陶瓷球之間不會產生Particle，半永久板簧（SUS鋼板）的應用確保閥門驅動同步性，采用了固定球導向器和鋼陶瓷。微泰半導體閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環保科技有限公司。轉移閘閥角控制閥微泰轉移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統。

微泰，傳輸閥 (I-MOTION)、I型轉換閥、輸送閥、轉移閥應用于晶圓加工，半導體加工，可替代VAT閘閥。其特點是? 主體材料：鋁或不銹鋼? 緊湊型設計? 使用維修配件工具包易于維護? 應用：半導體系統中小于 450mm 晶圓的傳輸和處理室隔離，傳輸閥 (I-MOTION)、輸送閥、轉移閥規格如下：閘門密封類型：傳輸閥 (I-MOTION)、右動轉換閥、驅動方式：氣動、法蘭尺寸（內徑） 32×222/46×236/50×336/56×500 、連接方式：焊接波紋管、閘門密封 Viton O 形圈/硫化密封件、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應時間：≤ 2 sec、工作壓力范圍：1×10-10 mbar to 1200 mbar、開始時的壓差：≤ 30 mbar、開啟時壓差： ≤ 1200 mbar r、泄漏率不銹鋼：< 1×10 -9Mbar?/秒/鋁：< 1×10 -5  mbar ?/秒、維護前可用次數： ≥1,000,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績，上海安宇泰環保科技有限公司。

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮氣控制閘閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個內置控制器，可以在本地和遠程模式下操作。它還具有緊急關閉功能，以應對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點之一是能夠遠程檢查閥門狀態，并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作，適用于需要壓力控制的所有加工領域。采用手動調節控制裝置控制，用戶可直接控制閘門的開啟和關閉，以調節壓力。微泰半導體多定位閘閥被廣泛應用于 Evaporation（蒸發）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）、CVD（化學氣相沉積）等設備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。該閘閥由上海安宇泰環保科技有限公司提供。控制系統和蝶閥使用步進電機操作，而多定位閘閥使用氣動控制操作。

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，鋁閘閥（AL Gate Valve）-產品范圍：1.5英寸~10英寸-12英寸可生產的產品尺寸，閥體材料：鋁、氣動、緊湊設計、重量輕。閘門，閥蓋密封：Viton O-Ring使用次數：100000次，易于維護，低顆粒（陶瓷球機構）。- Body Material : Aluminum  - Pneumatic - Compact Design- Light of weight - Gate, Bonnet Seal : Viton O-Ring - Cycles until first service : 100,000 - Easy Maintenance - Low Particle (Ceramic Ball Mechanism)，微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。高壓閘閥按閥桿螺紋的位置分外螺紋式、內螺紋式、法蘭、焊接等。按介質的流向分，有直通式、直流式和角式。PVD閘閥BUTTERFLY VALVE

微泰控制系統閥門是安裝在半導體CVD設備中的主要閥門。控制系統閥門起到調節腔內壓力的作用。轉移閘閥I型轉移閥

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，一、控制系統閘閥。控制系統閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作，可以在高真空環境中實現精確的壓力控制。如半導體等高真空工藝應用。控制系統閘閥是自動控制到用戶指定的值，通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。二、蝶閥。該蝶閥具有緊湊的設計和堅固的不銹鋼結構，通過閘板旋轉操作。蝶閥可以實現精確的壓力控制和低真空環境。例如半導體和工業過程。蝶閥通過控制器和步進電機自動控制到用戶指定的值，保持一致的真空壓力。三、多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮氣控制閘閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個內置控制器，可以在本地和遠程模式下操作。它還具有緊急關閉功能，以應對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點之一是能夠遠程檢查閥門狀態，并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作，適用于需要壓力控制的所有加工領域。采用手動調節控制裝置控制，用戶可直接控制閘門的開啟和關閉，以調節壓力。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。轉移閘閥I型轉移閥