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企業商機
光刻機基本參數
  • 品牌
  • POLOS
  • 型號
  • BEAM
  • 類型
  • 激光蝕刻機
光刻機企業商機

某材料實驗室利用 Polos 光刻機的亞微米級圖案化能力,在鋁合金表面制備出仿荷葉結構的超疏水涂層。其激光直寫技術在 20μm 間距的微柱陣列上疊加 500nm 的納米脊,使材料表面接觸角達 165°,滾動角小于 3°。該涂層在海水環境中浸泡 30 天后,防腐蝕性能較未處理表面提升 10 倍。其靈活的圖案編輯功能還支持在同一樣品上實現超疏水與超親水區域的任意組合,被用于微流控芯片的液滴定向輸運,液滴驅動電壓降低至傳統方法的 1/3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。Polos-μPrinter 入選《半導體技術》年度創新產品,推動無掩模光刻技術普及。陜西POLOSBEAM光刻機讓你隨意進行納米圖案化

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可編程微流控芯片需要集成電路控制與流體通道,傳統工藝需多次掩模對準,良率only 30%。Polos 光刻機的多材料同步曝光技術,支持在同一塊基板上直接制備金屬電極與 PDMS 通道,將良率提升至 85%。某微系統實驗室利用該特性,開發出可實時切換流路的生化分析芯片,通過軟件輸入不同圖案,10 分鐘內即可完成從 DNA 擴增到蛋白質檢測的模塊切換。該成果應用于 POCT 設備,使現場快速檢測系統的體積縮小 60%,檢測時間縮短至傳統方法的 1/3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。安徽德國POLOS光刻機MAX層厚可達到10微米能源收集:微型壓電收集器效率 35%,低頻振動發電支持無源物聯網。

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SPS POLOS μ以緊湊的桌面設計降低實驗室設備投入,光束引擎通過壓電驅動實現高速掃描(單次寫入400 μm區域)。支持AZ5214E等光刻膠的高效曝光,成功制備3 μm間距微圖案陣列和叉指電容器,助力納米材料與柔性電子器件的快速驗證。其無掩模特性進一步減少材料浪費,為中小型實驗室提供經濟解決方案62。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。

某材料科學研究中心在探索新型納米復合材料的性能時,需要在材料表面構建特殊的納米圖案。德國 Polos 光刻機成為實現這一目標的得力工具。研究人員利用其無掩模激光光刻技術,在不同的納米材料表面制作出各種周期性和非周期性的圖案結構。經過測試發現,帶有特定圖案的納米復合材料,其電學、光學和力學性能發生了remarkable改變。例如,一種原本光學性能普通的納米材料,在經過 Polos 光刻機處理后,對特定波長光的吸收率提高了 30%,為開發新型光電器件和光學傳感器提供了新的材料選擇和設計思路 。POLOS μ 光刻機:桌面級設計,2-23μm 可調分辨率,兼容 4 英寸晶圓,微機電系統加工誤差 < 5μm。

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某基因treatment團隊采用 Polos 光刻機開發了微米級 DNA 遞送載體。通過 STL 模型直接導入,在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窩狀微孔結構,載體的 DNA 負載量達 200μg/mg,較傳統電穿孔法提升 5 倍。動物實驗顯示,該載體在肝臟靶向遞送中,基因轉染效率達 65%,且免疫原性降低 70%。其無掩模特性支持根據不同細胞表面受體定制載體形貌,在 CAR-T 細胞treatment中,CAR 基因導入效率從 30% 提升至 75%,相關技術已申請國際patent。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。光束引擎高速掃描:SPS POLOS μ單次寫入400 μm區域,壓電驅動提升掃描速度。德國POLOS桌面無掩模光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

微型傳感器量產:80 μm開環諧振器加工能力,推動工業級MEMS傳感器升級。陜西POLOSBEAM光刻機讓你隨意進行納米圖案化

某人工智能芯片公司利用 Polos 光刻機開發了基于阻變存儲器(RRAM)的存算一體架構。其激光直寫技術在 10nm 厚度的 HfO?介質層上實現了 5nm 的電極邊緣控制,器件的電導均勻性提升至 95%,計算能效比達 10TOPS/W,較傳統 GPU 提升兩個數量級。基于該技術的邊緣 AI 芯片,在圖像識別任務中能耗降低 80%,推理速度提升 3 倍,已應用于智能攝像頭和無人機避障系統,相關芯片出貨量突破百萬片。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。陜西POLOSBEAM光刻機讓你隨意進行納米圖案化

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北京德國桌面無掩模光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模 2025-07-03

在微流體領域,Polos系列光刻機通過無掩模技術實現了復雜3D流道結構的快速成型。例如,中科院理化所利用類似技術制備跨尺度微盤陣列,研究細胞球浸潤行為,為組織工程提供了新型生物界面設計策略10。Polos設備的精度與靈活性可支持此類仿生結構的批量生產,推動醫療診斷芯片的研發。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協的情況下,將該技術帶到了桌面上,進一步提升了其優勢。科研成果轉化:中科院利用同類技術制備跨尺度微盤陣列,研究細胞浸潤機制。北京德國桌面無掩模光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩...

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