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進給通道7通過它的端與旋流器1的圓筒形殼體部分2中的入口開口6連接。進給通道7可以通過第二端例如與鼓風(fēng)爐/流化床的排出開口連接。入口開口6以及直接放置于其上的進給通道7被布置在圓筒形殼體部分2的上端處。推薦地，在這種情況下，進給通道7的上壁9以及殼體蓋5以共面方式布置。通常，旋流器1被布置成使得圓錐形殼體部分3沿重力場的方向向下定向。在旋流器的比較低點處設(shè)置有排出端口4，可以通過排出端口排出已經(jīng)被從流體流提取的顆粒和/或液體。在操作期間，流體流連同顆粒被通過進給通道7和入口開口6進給至殼體部分2中。這通常以切向方式實現(xiàn)(參見圖1b)，以使得引起流體流的圓形運動。流體流沿螺旋形路徑從入口...

100)的流體被先引入流體通道(104)的端比流體噴射片(100)的流體離開流體通道(104)的第二端相對更冷。為了減小或消除流體噴射片(100)中的這種熱梯度，可以在流體通道層(140)相對于流體噴射層(101)的相對側(cè)上鄰近流體通道層(140)地設(shè)置有中介層(150)。中介層(150)可以包括多個輸入端口(151)和輸出端口(152)。在一個示例中，輸入端口(151)和輸出端口(152)可以以大約(mm)的間距間隔開。中介層(150)中限定的輸入端口(151)和輸出端口(152)的大小、數(shù)量和位置可以基于流體通道(104)內(nèi)的流體的期望流動速度，并且可以考慮優(yōu)化流體通道(104)內(nèi)...

所述多個流體饋送孔射流地耦接到激發(fā)腔陣列。所述系統(tǒng)可以包括耦接到中介層的載體基質(zhì)。該載體基質(zhì)可以包括對應(yīng)于輸入端口和輸出端口地限定于該載體基質(zhì)中的多個開口。進一步地，流體噴射設(shè)備的至少一部分可以在可注塑的材料內(nèi)二次注塑。本文所述的示例還提供了一種流體流動結(jié)構(gòu)。該流體流動結(jié)構(gòu)可以包括流體通道層，該流體通道層包括沿著流體噴射設(shè)備的長度限定的至少一個流體通道。所述流體流動結(jié)構(gòu)還可以包括耦接到流體通道層的中介層。所述中介層可以包括限定在所述中介層中的多個輸入端口以將至少一個通道層射流地耦接到流體源，和限定在中介層中的多個輸出端口以將至少一個通道層射流地耦接到流體源。所述流體流動結(jié)構(gòu)還可以包括耦...